ASML sta consegnando un secondo sistema litografico High-NA EUV a un cliente sconosciuto

ASML ha iniziato a consegnare il suo secondo sistema litografico High-NA EUV a un secondo cliente non meglio precisato. Il primo macchinario era stato consegnato a Intel sul finire del 2023.
di Manolo De Agostini pubblicata il 18 Aprile 2024, alle 11:21 nel canale ProcessoriASML
ASML, il produttore dei macchinari litografici più avanzati al mondo per la produzione di semiconduttori, ha iniziato a consegnare il suo secondo sistema litografico High-NA EUV a un cliente non meglio precisato, ma a quanto pare diverso da Intel.
"Per quanto riguarda High-NA, o 0.55 NA EUV, abbiamo spedito il nostro primo sistema a un cliente ed è attualmente in fase di installazione", ha affermato Christophe Fouquet, direttore aziendale di ASML, riferendosi alla casa di Santa Clara.
"Abbiamo iniziato a spedire il secondo sistema questo mese e anche la sua installazione sta per iniziare". Intel ha ricevuto il costoso e complesso Twinscan EXE:5000 sul finire del 2023: l'obiettivo di Intel è usare una versione rifinita di quel sistema, chiamata 5200, per produrre tra alcuni anni con processo produttivo 14A e successivi. Il sistema è in fase di assemblaggio presso la Fab D1X di Hillsboro, Oregon.
Con High-NA (NA sta per Numerical Aperture) si intendono macchinari litografici EUV ad alta apertura numerica, dove vi sono lenti con apertura numerica 0.55 capaci di una risoluzione di 8 nm, un deciso miglioramento rispetto ai 13 nm dei macchinari EUV attuali. I sistemi EUV High-NA dovrebbero così consentire di evitare il double patterning, riducendo la complessità nella realizzazione dei chip con risvolti positivi per costi e rese.
"Durante la conferenza di settore SPIE di febbraio, abbiamo annunciato la prima luce sul nostro sistema High-NA situato nel nostro laboratorio congiunto ASML-Imec High-NA a Veldhoven", ha affermato il Fouquet. "Da allora abbiamo ottenuto le prime immagini, con una nuova risoluzione record inferiore a 10 nm e prevediamo di iniziare a esporre i wafer nelle prossime settimane. Tutti i clienti High-NA utilizzeranno questo sistema per accedere anticipatamente allo sviluppo dei processi".
Our High NA EUV system in Veldhoven printed the first-ever 10 nanometer dense lines. ✨ Imaging was done after optics, sensors and stages completed coarse calibration.
— ASML (@ASMLcompany) April 17, 2024
Next up: bringing the system to full performance. And achieving the same results in the field. ⚙️ pic.twitter.com/zcA5V0ScUf
La taiwanese TSMC e la giapponese Rapidus non sembrano avere intenzione di adottare la litografia High-NA EUV per la produzione di massa a breve, o almeno non nelle tempistiche di Intel, ma prima o poi lo dovranno fare perché semplifica alcune fasi della realizzazione dei wafer. Non è quindi da escludere che a scopi di ricerca il secondo sistema non sia andato a una di queste due società o, non bisogna dimenticarla, a Samsung.
ASML è ottimista riguardo al futuro di litografia High-NA EUV, tanto che sta esplorando l'impiego di ottiche di proiezione dotate di apertura numerica superiore a 0.7. Ogni sistema costa intorno a 350-400 milioni di dollari.
"L'interesse dei clienti per il nostro laboratorio per sistemi [High-NA] è elevato poiché questo sistema aiuterà sia i nostri clienti della produzione di chip logici che quelli delle memorie a prepararsi per l'inserimento di High-NA nelle loro roadmap", ha affermato Fouquet. "Rispetto a 0.33 NA, il sistema 0.55 NA fornisce una risoluzione maggiore consentendo un aumento di quasi 3 volte nella densità dei transistor, con una produttività simile, a supporto dei processi logici sotto i 2 nm e di quelli DRAM sotto i 10 nm". ASML ha ordini per macchinari litografici High-NA EUV che in un ordine tra 10 e 20 unità al momento.
Nel mentre, la società continua ad aggiornare e migliorare i macchinari litografici EUV, ovvero con apertura numerica 0.33, tanto da aver annunciato che il nuovo NXE:3800E è stato spedito al primo cliente questo trimestre e sta per essere messo in produzione.
ASML indica per NXE:3800E una capacità di produrre 220 wafer all'ora, rispetto alle soluzioni precedenti che si fermavano a 160 wafer all'ora: si tratta di un aumento del 37,5%. All'inizio, i macchinari litografici EUV potevano produrre 120 wafer all'ora o anche meno. Il dato interessante è che ASML si aspetta una produzione di 220 wafer all'ora per le soluzioni High-NA EUV iniziali, il che darà modo ai clienti di rientrare dei costi più velocemente.
In concomitanza con questi annunci, ASML ha comunicato anche i dati finanziari del primo trimestre: il fatturato di poco inferiore a 5,3 miliardi di euro è nettamente inferiore a quello dello stesso periodo dello scorso anno, quando ammontava a 6,75 miliardi di euro. Anche gli utili sono scesi, da 1,96 a 1,22 miliardi di euro. Tuttavia, i nuovi ordini sono rimasti allo stesso livello dell'anno precedente, per un valore totale di 3,6 miliardi di euro. Le prospettive per i prossimi mesi rimangono simili: nel secondo trimestre l'azienda vuole raggiungere ricavi di circa 6 miliardi di euro.
9 Commenti
Gli autori dei commenti, e non la redazione, sono responsabili dei contenuti da loro inseriti - infoc'è un "non" di troppo
< Accademia della crusca >
In Italiano la doppia negazione è ammessa come rafforzativo
</ Accademia della crusca >
In Italiano la doppia negazione è ammessa come rafforzativo
</ Accademia della crusca >
Ma sarebbe stato più semplice: ... o , senza dimenticare, ...
In Italiano la doppia negazione è ammessa come rafforzativo
</ Accademia della crusca >
mio caro cruscotto, le negazioni nella frase in questione sono tre :"non", "escludere", "non", il che trasforma il senso della frase in negativo, per cui ribadisco, ce n'è uno di troppo
Chi sarà il cliente sconosciuto?
Io, un'idea ce l'avrei...https://research.ibm.com/blog/high-...hography-albany
l'unica cosa che stupisce, facciamo notare e discutiamo e' che forse c'e' qualche errore grammaticale alla news
ma tanto ormai e' inutile studiare l'italiano a livelli grammarNazi, l'Italia e' fottuta, tanto sappiamo benissimo che la migliore aspettativa e' emigrare
la lingua locale sara' usata solamente quando rientriamo per le ferie in famiglia e amici, quando cioe' si tende a parlare in dialetto molto stretto, la crusca poi manco ai maiali
l'unica cosa che stupisce, facciamo notare e discutiamo e' che forse c'e' qualche errore grammaticale alla news
ma tanto ormai e' inutile studiare l'italiano a livelli grammarNazi, l'Italia e' fottuta, tanto sappiamo benissimo che la migliore aspettativa e' emigrare
la lingua locale sara' usata solamente quando rientriamo per le ferie in famiglia e amici, quando cioe' si tende a parlare in dialetto molto stretto, la crusca poi manco ai maiali
il linguaggio è il modo in cui si comunica, notizie comprese, per cui viene prima queste, in quanto senza di esso o in suo difetto, il resto perderebbe di significato
Devi effettuare il login per poter commentare
Se non sei ancora registrato, puoi farlo attraverso questo form.
Se sei già registrato e loggato nel sito, puoi inserire il tuo commento.
Si tenga presente quanto letto nel regolamento, nel rispetto del "quieto vivere".