ASML consegna a Intel il primo macchinario litografico EUV High-NA

ASML, il principale produttore olandese di macchinari litografici al mondo, ha annunciato di aver consegnato il primo sistema litografico EUV High-NA a Intel. Si tratta di un macchinario per la produzione di semiconduttori avanzati, con un prezzo superiore a 300 milioni di dollari.

ASML ha dato l'annuncio su X, dove si vede la foto del macchinario su un camion, infiocchettato con un nastro rosso, come se fosse un pacchetto regalo per il Natale. "Siamo entusiasti e orgogliosi di consegnare il nostro primo sistema High NA EUV a Intel", si legge.

Intel, che sta avanzando spedita nella strategia decisa da Pat Gelsinger di mettere a punto cinque nuovi processi produttivi in quattro anni, dovrebbe iniziare a usare il macchinario nella Fab D1X in Oregon, secondo indiscrezioni.

La produzione in volumi con i macchinari EUV High-NA non dovrebbe iniziare se non prima del tardo 2025 o nel 2026. Intel dovrebbe testare il macchinario con il processo 18A (18 Angstrom, 1,8 nm) per poi applicarlo alla produzione in volumi di chip con i processi successivi, ancora non indicati.

Con High-NA si intendono macchinari litografici EUV ad alta apertura numerica, dove vi sono lenti con apertura numerica 0.55 capaci di una risoluzione di 8 nm, un deciso miglioramento rispetto ai 13 nm dei macchinari EUV attuali.

I sistemi EUV High-NA dovrebbero così consentire di evitare il double patterning, riducendo la complessità nella realizzazione dei chip con risvolti positivi per costi e rese. Il passaggio alla litografia EUV High-NA richiederà non solo edifici più grandi, visto che i macchinari sono di dimensioni maggiori, ma anche di rivedere completamente la catena produttiva, sia in termini di materiali usati che di approccio alla progettazione dei chip. Per società come Intel, TSMC e le altre si tratta quindi di investire pesantemente, ben oltre l'acquisto del macchinario da ASML.

La società olandese ha annunciato nel 2022 che sarà in grado di mettere a punto 20 macchinari litografici EUV High-NA all'anno nel 2027 - 2028, in modo da rifornire non solo Intel ma anche Samsung Foundry e TSMC.

Stando a indiscrezioni provenienti dall'Asia, ASML dovrebbe realizzare 10 macchinari litografici EUV High-NA nel 2024 e, di questi, sei andranno a Intel. Se così fosse, e non dovessero presentarsi altri intoppi, Intel potrebbe avere chance importanti per recuperare il terreno perso in passato su TSMC nei prossimi anni.