La litografia High-NA ha visto 'la prima luce': ASML e Intel gongolano

ASML ha raggiunto (via Reuters) un traguardo fondamentale in vista della futura produzione di semiconduttori con macchinari High-NA. Si parla di "first light", cioè è stata accesa per la prima volta la sorgente luminosa del macchinario e il fascio di luce ha colpito un wafer di test in silicio trattato con sostanze chimiche sensibili alla luce (resist) in modo da imprimere il modello di un circuito.

Un passaggio tecnico importante perché consente di verificare il corretto allineamento tra la sorgente luminosa e gli specchi all'interno di una delle parti del complesso macchinario litografico Twinscan EXE:5000 di ASML, un gioiello che costa oltre 300 milioni di dollari.

"Tecnicamente, questa 'prima luce' è in realtà 'la prima luce sul wafer'", ha spiegato Marc Assinck, portavoce di ASML. "La sorgente luminosa era già funzionante, ora i fotoni hanno colpito il resist sul wafer". L'annuncio di questo traguardo è stato dato da Ann Kelleher di Intel, durante la SPIE lithography conference di San Jose.

Con High-NA si intende una litografia di tipo EUV con ottiche dotate di un'apertura numerica di 0.55, capaci di raggiungere con una singola esposizione una risoluzione di 8nm, contro i 13,5 mm dei sistemi EUV impiegati nella produzione odierna, per esempio da Intel con il processo Intel 4 della Compute Tile dei Core Ultra "Meteor Lake". In poche parole, consentirà di realizzare circuiti sempre più miniaturizzati e complessi.

Il primo sistema High-NA realizzato da ASML è ospitato nel suo laboratorio a Veldhoven, nei Paesi Bassi, mentre un secondo è in fase di assemblaggio a Hillsboro, Oregon, presso la Fab D1X. Il macchinario non ha ancora prodotto nulla, si trova in una fase di messa a punto ed è ben lontano dal garantire le massime prestazioni.

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Intel, primo cliente esterno di ASML per questa tipologia di macchinario litografico, userà il sistema che sta assemblando per mettere a punto i processi Intel 14A e 10A, i primi High-NA inseriti nella roadmap svelata nei giorni scorsi: i primi chip basati su quelle tecnologie dovrebbero debuttare nel 2026.

Quanto a Samsung, TSMC e ai produttori di memoria come Micron e SK hynix, tutti adotteranno sistemi litografici High-NA in futuro, ma al momento non ci sono tempistiche e informazioni precise: Intel dovrebbe quindi essere la prima a usare il macchinario nella produzione in volumi, sempre che non si verifichino intoppi o imprevedibili sorpassi.