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#1 |
www.hwupgrade.it
Iscritto dal: Jul 2001
Messaggi: 75173
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Link alla notizia: http://www.businessmagazine.it/news/...era_62200.html
I ricercatori sono risuciti a far crescere una sottile pellicola di materiale ferroelettrico su un substrato di silicio, usando convenzionali strumenti CMOS. Il prossimo passo è dimostrare le caratteristiche funzionali del materiale Click sul link per visualizzare la notizia. |
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#2 |
Senior Member
Iscritto dal: Oct 2001
Messaggi: 14734
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"... è che possiamo crescere pellicole... "
Occhio state utilizzando crescere con valore intransitivo, e di conseguenza non supporta il complemento oggetto (le pellicole). Per usarlo in modo transitivo occorre in questo caso farlo precedere da fare ("far crescere"). |
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#3 |
Junior Member
Iscritto dal: Oct 2014
Messaggi: 12
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Sicuri???
Ciao a tutti,
leggo nell'articolo: "possiamo crescere pellicole di una lega ossida di hafnio e zirconio policristallina" ma poi leggo anche: "Usiamo la tecnica ALD [...] per crescere un ossido amorfo di hafnio e zirconio con una composizione predefinita" Ma allora è amorfo o policristallino??? Magari se leggiamo l'articolo di partenza: http://www.eetimes.com/document.asp?doc_id=1329478 Ci accorgiamo che: "The oxide film is further crystallized during ALD growth of the capping TiN layer" Se proprio dobbiamo tradurre un articolo, lo traduciamo tutto e bene. Ma sarebbe meglio se magari si commentasse direttamente un lavoro pubblicato su Applied Materials & Interfaces che non è un giornalaccio trascurabile.... Buon pomeriggio a tutti. Compreso a chi produce ferroelettrici mediante ALD. Ultrafoxxx |
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