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Old 27-10-2008, 08:59   #1
85francy85
 
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Chimica: differenza cella base reticolo SiO2 e SiO4

Ciao a tutti.

Ho sempre dato per scontato che nei processi elettronici l'ossido di silicio fosse l'SiO2. Oggi legendo alcuni appunti nelle immagini c'e un bella vista la struttura teragonale del tetrossido di silicio SiO4 mentre nel testo continua a parlare di ossido di silicio SiO2. Oggi o domani chiederè spiegazioni direttamente al prof.

La domanda che vi pongo è un'altra. Cosa differenza la singola molecola e il reticolo cristallino di queste due molecole? (spero di non aver scritto stupidate )
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Old 27-10-2008, 09:38   #2
Gargoyle
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L'Avatar di Gargoyle
 
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Ciao a tutti.

Ho sempre dato per scontato che nei processi elettronici l'ossido di silicio fosse l'SiO2. Oggi legendo alcuni appunti nelle immagini c'e un bella vista la struttura teragonale del tetrossido di silicio SiO4 mentre nel testo continua a parlare di ossido di silicio SiO2. Oggi o domani chiederè spiegazioni direttamente al prof.

La domanda che vi pongo è un'altra. Cosa differenza la singola molecola e il reticolo cristallino di queste due molecole? (spero di non aver scritto stupidate )
Premetto che della composizione dei semincoduttori non so niente.

Comunque il fatto che l'unità di base sia SiO2 secondo me non è in contrasto col disegno sul libro: può benissimo trattarsi di molecole di SiO2 che però nel materiale in questione si dispongono con gli atomi di ossigeno a formare un tetraedro attorno agli atomi di silicio.
Nel disegno in questione, probabilmente, solo due ossigeni "appartenevano" davvero alla molecola di SiO2, gli altri due erano in realtà di molecole diverse.
Gargoyle è offline   Rispondi citando il messaggio o parte di esso
Old 27-10-2008, 12:02   #3
gigio2005
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Ciao a tutti.

Ho sempre dato per scontato che nei processi elettronici l'ossido di silicio fosse l'SiO2. Oggi legendo alcuni appunti nelle immagini c'e un bella vista la struttura teragonale del tetrossido di silicio SiO4 mentre nel testo continua a parlare di ossido di silicio SiO2. Oggi o domani chiederè spiegazioni direttamente al prof.

La domanda che vi pongo è un'altra. Cosa differenza la singola molecola e il reticolo cristallino di queste due molecole? (spero di non aver scritto stupidate )
la formula dell'ossido di silicio e' SiO2

quello che tu chiami SiO4 e' in realta' [SiO4]4- (4 cariche negative) ovvero l'unita' tetraedrica che si forma nella struttura cristallina della silice
gigio2005 è offline   Rispondi citando il messaggio o parte di esso
Old 27-10-2008, 12:14   #4
85francy85
 
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la formula dell'ossido di silicio e' SiO2

quello che tu chiami SiO4 e' in realta' [SiO4]4- (4 cariche negative) ovvero l'unita' tetraedrica che si forma nella struttura cristallina della silice
ecco spiegato il mistero . Grazie mille a entrambi!.
C'e ancora una cosa che non mi è chiara: nella struttura cristallina ho un rapporto 1:2 tra atomi di silicio e ossigeno (come dovrebbe essere)? Devo farmi un disegnino mentale altrimenti non capisco

cioè cosi


e cosi



ques'ultima non avendo alcuni legami saturati (crescita amorfa del "cristallo") e essendo uno spezzone piccolo di reticolo cosi ad occhio mi sembravano proprio in rapporto 1/4 e non capivo il perche


grazie ancora
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Old 27-10-2008, 19:52   #5
entanglement
Senior Member
 
L'Avatar di entanglement
 
Iscritto dal: Sep 2008
Città: ...dove Sile a Cagnan s'accompagna...
Messaggi: 1056
il cristallo perfetto ha in teoria il rapporto stechiometrico esatto a partire dai numeri di ossidazione, per quanto riguarda l'amorfo, l'amorfo è per sua natura random !

in superficie troverai una concentrazione più alta di O, nel bulk sarai più vicino al rapporto stechiometrico corretto
__________________
And did you exchange a walk on part in the war for a lead role in a cage?
nerdtest: 36% - http://www.nerdtests.com
entanglement è offline   Rispondi citando il messaggio o parte di esso
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