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#1 |
www.hwupgrade.it
Iscritto dal: Jul 2001
Messaggi: 75173
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Link alla notizia: http://www.hwupgrade.it/news/server/16327.html
Al debutto nella seconda metà dell'anno le nuove architetture Xeon MP, dotate di una cache di terzo livello condivisa da ben 16 Mbytes Click sul link per visualizzare la notizia. |
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#2 |
Senior Member
Iscritto dal: May 2002
Città: Londra
Messaggi: 680
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domanda da ignorante: ma xkè i wafer non sono quadrati? fossero quadrati si sfrutterebbe tutto lo spazio disponibile ottenendo die da tutto il silicio, mentre vedo che invece in quei wafer tondi alcuni die sono "tagliati" e immagino inutilizzabili. qualcuno può chiarire?
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#3 |
Senior Member
Iscritto dal: Feb 2006
Messaggi: 340
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Un bel passo avanti riguardo ai consumi e alla cache di terzo livello da ben 16 MB!!!
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#4 |
Bannato
Iscritto dal: Aug 2001
Città: Berghem Haven
Messaggi: 13513
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lol, superato il miliardo di transistor
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#5 |
Member
Iscritto dal: Nov 2005
Messaggi: 102
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150W
wow! una bella lampadina alogena.....
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#6 |
Senior Member
Iscritto dal: Aug 1999
Città: Monza
Messaggi: 4178
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I wafer sono rotondi per motivi di processo tecnologico.
1) vengono realizzati affettando letteralmente dei cilindri di silicio. La lavorazione di uncilindro permette di controllare in maniera migliore l'UNIFORMITA' della massa di silicio rispetto a un parallelepipedo 2) il processo di mascheratura nella lavarozazione dei semiconduttori prevede la stesura di una pellicola che allo stato originale è liquida. Ne viene quindi depositata qualche ml sul wafer e stesa mediante rotazione ad alta velocità dello stesso (come fosse un disco su un lettore per intenderci). La forma discoidale permette anche qui di controllare le forze centrifughe e quindi l'uniformità della pellicola che si ottiene dall'essicazione della soluzione deposta 3) l'incisione degli strati di ossido nella lavorazione dei semiconduttori prevede l'utilizzo di acidi corrosivi e lavaggio degli stessi alla fine del trattamento. Per rimuovere i residui di acidi nella prima fase e di soluzione neutra nella seconda fase viene sempre impiegata la rotazione ad alta velocità del wafer, anche in questa fase la forma discoidale permette un miglior controllo delle forze centrifughe e quindi il raggiungimento di più alte velocità e quindi una più efficiente pulizia della superficie del wafer. Salut |
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#7 |
Senior Member
Iscritto dal: Dec 2002
Città: Matera
Messaggi: 857
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Mi sembra di ricordare che i wafer sono rotondi xchè sono legati al sistema di incisione dei transistor che è di tipo ottico. Quindi immagina che i wafer sono + o - come la lente che serve alla lavorazione. Quaesta dovrebbe essere la spiegazione molto grossolana, ma se cerchi sulla rete senz'altro trovi spiegazioni + approfondite
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#8 | |
Senior Member
Iscritto dal: May 2004
Messaggi: 7465
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![]() ma la spiegazione di MisterG è perfetta ![]() |
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#9 |
Senior Member
Iscritto dal: Jan 2002
Messaggi: 847
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Si parte da una punta di silicio cristallino, senza imperfezioni. Questa punta viene inserita in una vasca di silicio che si trova a temperatura di fusione (quindi è "molliccio"); nella vasca, intorno alla punta, che è chiamata seme, si attacca un po' di silicio; il seme viene poi tirato fuori, ma mentre il seme scende e poi sale, lo stesso seme ha un movimento rotatorio intorno al suo asse, per dare uniformità al wafer che verrà fuori. Si usa un seme senza imperfezioni che entra in una vasca di silicio fuso perchè il silicio fuso che si attacca al seme e poi, fuori dalla vasca, si raffredda, assumerà la struttura del seme stesso, e dato che il seme ha struttura cristallina, anche il resto del silicio avrà la stessa struttura uniforme, cosa che non accadrebbe se la vasca fosse lasciata raffreddata in maniera "autonoma"; ci sarebbero quindi un casino di imperfezioni. A furia di scendi/sali, si genera il cilindro di silicio, che poi viene tagliato con una sega a filo di diamante.
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#10 |
Member
Iscritto dal: Jun 2001
Messaggi: 287
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http://it.wikipedia.org/wiki/Processo_Czochralski
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#11 | |
Senior Member
Iscritto dal: Aug 1999
Città: Monza
Messaggi: 4178
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Quote:
Le incisioni (per usare le tue parole) non vengono eseguite per via ottica ma per corrosione. L'ottica centra solo nella fase appena precedente alla fase di corrosione ovvero nella mascheratura. In pratica la pellicola che viene applicata come al punto due di quando ho detto sopra è fotosensibile, quindi è possibile mediante esposizione a fonte luminosa disegnarsci sopra il negativo delle geometrie che si vogliono ottenere sugli strati di ossido di accrescimento del silicio e che successivamente verrano preservate dall'attacco degli acidi. Salut |
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#12 |
Senior Member
Iscritto dal: Apr 2004
Città: Livorno
Messaggi: 6612
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435 mm quadrati, praticamente una pietra ollare...
Quello che mi lascia perplesso è la quantità di die sprecati dal processo di mascheratura. So che viene effettuato sempre nello stesso modo perché i dischi non sono sempre di uguale diametro, ma non si potrebbe ottimizzare il design volta per volta? Mah... |
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#13 |
Registered User
Iscritto dal: Feb 2002
Messaggi: 338
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Intel dovrebbe a mio parere cessare di produrre Xeon, l'architettura è ormai superata e non risponde ai requisiti odierni che vogliono potenza e bassi consumi, basso costo di esercizio. E' finita l'era in cui sventolare un certo marchio o un nome bastava a far vendere il prodotto. La concorrenza è agguerrita e tecnicamente superiore, ad esempio Opteron nel general purpose/scientifico low cost e UltraSparc nel server votato al multithreading.
Non vedo un futuro felice per i nuovi Xeon, sopratutto in vista degli imminenti prodotti della concorrenza da 65nm. |
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#14 |
Member
Iscritto dal: Nov 2003
Città: Bazzano
Messaggi: 30
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Intel sta prendendo decisioni troppo da monopolista (come ha sempre fatto)...ma perchè invece di aumentare cache su un'architettura piuttosto inefficiente cercare di riprogettare da 0 questi processori basandosi sull'efficienza.. in un'azienda il consumo legato a questi processori influisce negativamente sui costi di consumo di energia elettrica...nel 2006 non ci possiamo permettere processori inefficienti e che scaldano più dei vecchi K6... (Almeno AMD è sulla strada giusta)
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#15 |
Senior Member
Iscritto dal: Jul 2003
Messaggi: 735
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Bulfio è l'unico che ha dato la risposta corretta, le altre sono tutte conseguenze.... ma come si fa a dare una spiegazione con la conseguenza di ciò che dovresti rispondere?????
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#16 |
Member
Iscritto dal: Jul 2004
Messaggi: 171
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MMMMMiiiiiiiiiiinnnnnnnn.....
......cxxxxxaaaaaa.....ogni volta ci fanno vedere sti "LP", mi viene un coccolone pensando al case......
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#17 | |
Senior Member
Iscritto dal: May 2004
Messaggi: 7465
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Quote:
quello che chiedi tu l'lntel lo ha gia fatto negli ultimi anni e le cpu che stai cercando usciranno entro l'anno, queste sono le ultime con tecnologia di derivazione P4 la prossime generazione a leggere le specifiche rese note dovrebbero essere sensibilmente piu performanti ma non rispetto ai p4 attuali ma rispetto alla consorrenza amd (che ovviamente sta già preparando la risposta) Ultima modifica di coschizza : 08-02-2006 alle 23:00. |
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#18 | |
Bannato
Iscritto dal: Mar 2002
Città: Pescara - 未婚・恋人なし Moto: Honda CBR 1000 RR Casco: XR1000 Diabolic 3
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#19 |
Bannato
Iscritto dal: Mar 2002
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Quanti processori conterrà secondo voi quel wafer?
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#20 |
Senior Member
Iscritto dal: Feb 2003
Città: Roma
Messaggi: 339
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Il wafer è da 12 pollici = 304,8 mm -> area = 72966 mm2;
se non si sprecasse area nel processo di realizzazione e nel taglio dei "die", avresti 72966/435 = circa 167 processori. Contando quelli sul bordo e quelli che comunque non vengono bene, forse un centinaio o poco più. Quelli che non vengono bene non si buttano, ma ritornano nel ciclo: il silicio viene depurato e riutilizzato per fare altri wafer. Con quello che costano... non si butta niente!! per MaxArt: il processo VIENE ottimizzato ogni volta! Il problema è che il disegno del processore è ogni volta diverso, con diversa area da occupare sul wafer. Stai tranquillo, che l'area sprecata è ridotta quasi a zero (sono soldi che si perderebbero!). |
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