Anche gli USA inseguono l'indipendenza: una startup americana promette un'alternativa migliore di ASML per la produzione di chip
La startup americana Substrate vuole cambiare la litografia dei semiconduttori con una tecnologia a raggi X che promette chip più economici e precisi. Finanziata da Founders Fund e valutata oltre 1 miliardo di dollari, l’azienda punta a costruire fabbriche negli Stati Uniti e competere con giganti come ASML e TSMC.
di Vittorio Rienzo pubblicata il 29 Ottobre 2025, alle 20:01 nel canale ProcessoriSubstrate ha deciso di sfidare i colossi della litografia, proponendo un approccio radicalmente diverso nella produzione di semiconduttori. Parliamo di una startup statunitense, con sede a San Francisco, che punta alla produzione di chip avanzati negli Stati Uniti grazie a un sistema litografico basato su raggi X generati da un acceleratore di particelle, in alternativa alla tradizionale luce EUV (Extreme Ultraviolet) utilizzata da ASML.
Fondata nel 2022 da James Proud, imprenditore trentaquattrenne e vincitore della Thiel Fellowship, Substrate ha già raccolto 100 milioni di dollari in un round di investimento guidato da Founders Fund, General Catalyst e Valor Equity Partners, raggiungendo una valutazione superiore a 1 miliardo di dollari.
Substrate is building a next-generation foundry to return America to dominance in semiconductor production. To achieve this, we will use our technology—a new form of advanced X-ray lithography—to power them.
— Substrate (@substrate) October 28, 2025
America invented semiconductors. We will lead again. pic.twitter.com/1rgnWSYYZG
Secondo Proud, l’obiettivo è chiaro: produrre wafer di qualità superiore al costo più basso possibile e in grandi volumi direttamente sul suolo americano. Una sfida ambiziosa, considerato il dominio di ASML, la società olandese che da anni monopolizza la litografia EUV, cuore della produzione dei chip più sofisticati.
I macchinari per la litografia di ASML vengono attualmente utilizzati dalla maggior parte delle fonderie e sono alla base dei chip prodotti da NVIDIA, Intel e AMD. La produzione americana, insomma, è profondamente dipendente dai macchinari di ASML.
Un approccio alternativo: la litografia a raggi X
Le macchine di Substrate sfruttano raggi X a lunghezza d’onda più corta rispetto ai 13,5 nanometri della luce EUV e permettono di stampare strutture da 12 nanometri, paragonabili a quelle ottenute dai sistemi High NA EUV di ASML. L’azienda afferma che la propria tecnologia consente maggiore precisione e impianti più compatti ed economici, senza dipendere da fornitori esterni di strumenti litografici o proprietà intellettuale.
Le immagini prodotte dai primi prototipi mostrano livelli di dettaglio pari o superiori alle macchine più avanzate sul mercato, un risultato che, se confermato, rappresenterebbe un significativo passo in avanti non solo per l'industria americana, ma per l'intero settore.
Un'industria dei chip tutta americana
Substrate non vuole limitarsi a vendere le proprie macchine, ma punta a diventare un produttore diretto di semiconduttori attraverso la realizzazione fonderie statunitensi (fab) capaci di competere con TSMC. L’azienda prevede di avviare la produzione nei prossimi due o tre anni, compatibilmente con il completamento delle prime linee produttive.
Il progetto ha già attirato l’attenzione del Dipartimento del Commercio e del Dipartimento dell’Energia degli Stati Uniti, nell’ambito delle iniziative per la rinascita della manifattura dei semiconduttori sul territorio nazionale. Proud ha incontrato più volte esponenti governativi ha dichiarato che "l’America deve tornare a guidare il mondo nella tecnologia dei chip".
Esperti come David Dai di Bernstein, però, ricordano che la litografia a raggi X era stata esplorata in passato senza risultati commerciali concreti e che il successo di Substrate dipenderà dalla capacità di creare un ecosistema industriale collaborativo.
Inoltre, non va trascurato che lo sviluppo dei chip si basa in parte sulla tecnologia EUV sviluppata oltre 40 anni fa. Sarà una sfida importante, quindi, convincere i chipmaker ad affidarsi a un metodo di produzione nuovo.
Per Proud, però, la missione è anche ideologica: riportare negli Stati Uniti la leadership tecnologica perduta per ridurre la dipendenza da Asia ed Europa in un settore considerato strategico per difesa, IA e supercalcolo.
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10 Commenti
Gli autori dei commenti, e non la redazione, sono responsabili dei contenuti da loro inseriti - infohttps://www.forbes.com/profile/james-proud/
Già la mancanza di concrete informazioni tecnico-scientifiche è sospetta, aggiungiamo il background del soggetto e dei suoi compagni di merende e ne risulta una sensazione a dir poco di fuffa.
Se poi si legge cosa afferma il tipo nell'intervista che ha rilasciato ... sorgono ulteriori dubbi:
https://www.datacenterdynamics.com/...challenge-asml/
Sembra che descriva un processo fotolitografico maskless basato su e-beam e micromirror array; anche il sample mostrato nell'articolo corrisponde a quel che si ottiene con un processo simile, ma è un metodo che non si presta alla produzione su larga scala.
Il fatto che proprio non spieghi come mai il nuovo processo sviluppato da Substrate si differenzia dagli altri metodi basati su e-beam ... ad esser buoni fa pensare che abbiano ancora molta strada da fare.
Quello che dovrebbe fare l'Europa, visto che la Cina (e i suoi alleati dei BRICS) e gli Stati Uniti si stanno tutti preparando al futuro riportando la produzione in casa, è smettere di chiudersi sempre di più su sé stessa.
Continuiamo a puntare sempre sulle stesse marche e gli stessi settori, mentre il resto del mondo avanza. Noi restiamo indietro, sempre e comunque, tranne pochissime eccellenze che, se non trovano intorno un ecosistema in evoluzione, finiranno inevitabilmente per spostarsi altrove, lasciando gli europei a fare i soliti schiavi e coloni.
No, la VdL ha deciso che non si deve più puntare sugli stessi settori, infatti ha ammazzato l'industria automobilistica europea. Forse ne tentativo di creare qualcosa d'altro, o più probabilmente creare migliaia di disoccupati con cui abbattere il costo del lavoro negli altri settori.
Per quanto riguarda queste fantomatiche tecnologie alternative, la storia dice che l'EUV ha impiegato più di 30 anni a maturare fino a un macchinario capace di funzionare a livello industriale e ciò è stato merito di ASML che tra tutte le possibili alternative ci ha creduto e investito.
Quindi se mai ci fosse stato un modo più semplice che in pochi anni avesse avuto prestazioni migliori con costi inferiori dubito che qualcun altro, o la stessa ASML, non ci avrebbe pensato e investito.
Non dico che la tecnologia descritta non funzioni, smanettandoci qualcosa sicuramente sarà in grado di fare, ma di arrivare a livello di sfornare migliaia di wafer al mese ho i miei dubbi. E soprattutto non certo con costi tanto inferiori a quelli dei macchinari ASML.
Trovo più probabile che si migliori il sistema di nano imprinting inventato dai giapponesi per renderlo sufficientemente avanzato e ancora più economico.
Mi sa che ci arriveranno prima loro,hanno troppa voglia di dare una stecca nei denti agli americani e al suo presidente.
https://www.forbes.com/profile/james-proud/
Già la mancanza di concrete informazioni tecnico-scientifiche è sospetta, aggiungiamo il background del soggetto e dei suoi compagni di merende e ne risulta una sensazione a dir poco di fuffa.
Se poi si legge cosa afferma il tipo nell'intervista che ha rilasciato ... sorgono ulteriori dubbi:
https://www.datacenterdynamics.com/...challenge-asml/
Sembra che descriva un processo fotolitografico maskless basato su e-beam e micromirror array; anche il sample mostrato nell'articolo corrisponde a quel che si ottiene con un processo simile, ma è un metodo che non si presta alla produzione su larga scala.
Il fatto che proprio non spieghi come mai il nuovo processo sviluppato da Substrate si differenzia dagli altri metodi basati su e-beam ... ad esser buoni fa pensare che abbiano ancora molta strada da fare.
Quello che descrive l'articolo che hai portato e suggerisce l'animazione e' il processo FEL. Ovvero accelerare elettroni e farli passare attraverso strutture magnetiche chiamate ondulatori per generare i raggi X utilizzati nel processo litografico.
In pratica cercano di fare la stessa cosa che cerca di fare X-light https://www.xlight.com/ (di cui anche hwupgrade ha parlato in passato).
Ci sono gia' macchine sperimentali in operazione che si avvicinano alle prestazioni richieste. Una su tutte e' LCLS-II che e' stato recentemente messo in funzione negli USA. Non mi stupirebbe se i samples mostrati fossero stati prodotti da quella macchina. Rimangono comunque delle sfide non da poco in termini di efficienza e affidabilita' di queste macchine prima di arrivare ad un utilizzo commerciale. Oltre al fatto che l'ottica dei raggi X non e' proprio un campo 'semplice'.
Quello che dovrebbe fare l'Europa, visto che la Cina (e i suoi alleati dei BRICS) e gli Stati Uniti si stanno tutti preparando al futuro riportando la produzione in casa, è smettere di chiudersi sempre di più su sé stessa.
Continuiamo a puntare sempre sulle stesse marche e gli stessi settori, mentre il resto del mondo avanza. Noi restiamo indietro, sempre e comunque, tranne pochissime eccellenze che, se non trovano intorno un ecosistema in evoluzione, finiranno inevitabilmente per spostarsi altrove, lasciando gli europei a fare i soliti schiavi e coloni.
pure sul forum vedi che c'è gente che blatera di tenere in vita il motore a combustione interna quando è chiaro da 20 anni che ha già dato tutto il possibile ed è una tecnologia in declino.
In italia poi siamo messi pure peggio perchè per il nostro governo sono "strategici" i balenari, i taxisti e la ristorazione, roba da paesi del 4° mondo.
veramente l'unica cosa fatta è dare la sveglia a un'industria che da almeno 20 anni viveva di rendita e stava perdendo il treno dell'innovazione (e forse l'ha ormai perso).
Quindi se mai ci fosse stato un modo più semplice che in pochi anni avesse avuto prestazioni migliori con costi inferiori dubito che qualcun altro, o la stessa ASML, non ci avrebbe pensato e investito.
Non dico che la tecnologia descritta non funzioni, smanettandoci qualcosa sicuramente sarà in grado di fare, ma di arrivare a livello di sfornare migliaia di wafer al mese ho i miei dubbi. E soprattutto non certo con costi tanto inferiori a quelli dei macchinari ASML.
non conosco la materia ma a naso penso che tu abbia ragione.
1) pure ASML se non son scemi indagano possibilità nuove per restare all'avanguardia
2) un acceleratore di particelle non è roba economica (oltre alla sicurezza)
Detto questo, non si può neanche escludere che qualcuno abbia un'idea geniale e se ne esca con una soluzione nuova e altamente innovativa, che straccia chi è sul mercato magari da 50 o 100 anni ma si è seduto sugli allori (vedi industria auto, o per restare nell’informatica Olivetti o Google).
e siamo così fessi da non usarla come arma di ricatto/trattativa, ad esempio per i dazi USA...
L'annuncio è talmente fuffoso che non si capisce cosa vogliono fare....
vogliono usare dei raggi X coerenti come un laser ? allora si serve un sincrotrone.. mi pare ci stiano già provando i cinesi
Altrimenti basta un tubo a vuoto (che in effetti è un mini acceleratore) o se la luminosità richiesta è molto alta un mini acceleratore lineare tipo quelli delle macchine per la radioterapia
vogliono usare dei raggi X coerenti come un laser ? allora si serve un sincrotrone.. mi pare ci stiano già provando i cinesi
Altrimenti basta un tubo a vuoto (che in effetti è un mini acceleratore) o se la luminosità richiesta è molto alta un mini acceleratore lineare tipo quelli delle macchine per la radioterapia
Le possibilita' sono due: o steady-state microbunching con sincrotroni o FEL con acceleratori lineari. Ma se vedi questa immagine dal loro sito, probabilmente si parla piu' di LINAC che di anelli.
Non penso che l'intensita' dei tubi a vuoto o di un acceleratore per la radioterapia sia sufficiente. Soprattutto visto che queste macchine producono X su una banda molto larga, mentre per la litografia [s]probabilmente[/s] serve uno spettro molto controllato. Comunque nel comunicato postato da LMCH e' abbastanza evidente che vogliano usare ondulatori (e quindi non produrre gli X per collisione con un target fisso ma per interazione con un campo magnetico).
veramente l'unica cosa fatta è dare la sveglia a un'industria che da almeno 20 anni viveva di rendita e stava perdendo il treno dell'innovazione (e forse l'ha ormai perso).
Ti rispondo solo perché la cosa c'entra anche con il topic.
Tecnologia in declino non significa un cazzo, detto alla francese. La tecnologia che abbiamo ha e ancora svolge perfettamente il compito che ha, cioè spostare persone e soprattutto cose.
L'innovazione imposta non Innova un bel niente, anzi è un passo indietro per la mobilità personale e totalmente inapplicabile per quella merci.
E' solo una applicazione per green washing in scala continentale che ci sta ammazzando economicamente.
E l'innovazione è così innovativa, utile e vantaggiosa che se non fosse per la quantità spropositata (parlando di aiuti alle aziende automobilistiche) di incentivi starebbe tutta in vetrina.
Innovare significato fare meglio s name penalità economica, altrimenti è imposizione di una tecnologia acerba che infatti il resto del mondo, tranne la Cina che con i motori termici era nel medioevo e con quelli elettrici ci sta conquistando, non ha abbracciato.
Fine della discussione sulla retorica "elettrico e bello perché innovativo"
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