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#1 |
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www.hwupgrade.it
Iscritto dal: Jul 2001
Messaggi: 75166
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Link alla notizia: https://www.hwupgrade.it/news/scienz...io_116336.html
Gli ingegneri del MIT hanno fatto crescere transistor 2D in scala atomica sopra un wafer in silicio da 8 pollici. La nuova tecnica potrebbe portare a ottenere chip più densi e potenti impilando i transistor in un'area simile a quella dei chip attuali. Click sul link per visualizzare la notizia. |
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#2 |
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Member
Iscritto dal: Jun 2021
Messaggi: 406
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wow geniale
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#3 |
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Member
Iscritto dal: Jul 2005
Città: Napoli
Messaggi: 276
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Direi che è una grande news! Speriamo non passino decenni prima di una applicazione pratica e commercialmente sostenibile !!
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#4 |
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Senior Member
Iscritto dal: Mar 2008
Messaggi: 1745
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Spero che Zhu sia più bravo nell'ingegneria dei materiali che a fare metafore: «è come costruire un edificio a più piani», «hai un granello di pepe intero e lo macini in polvere».
Insomma… |
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#5 |
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Senior Member
Iscritto dal: Aug 2006
Città: Valdagno
Messaggi: 6223
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Visto che la difficoltà che c'è di fare scendere i nanometri,quella del 3d è l'unica strada per scalare le prestazioni
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#6 |
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Senior Member
Iscritto dal: Sep 2001
Città: Saronno (VA)
Messaggi: 22298
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Tanta roba sta nuova tecnologia..
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#7 |
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Senior Member
Iscritto dal: Nov 2017
Città: Emilia
Messaggi: 2607
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La tecnologia presentata sembra promettente, oltre che quasi fantascientifica
Però da ignorante mi piacerebbe sapere come fanno a creare i transistor e i relativi collegamenti. Cioè, cosa usano per "obbligare" gli atomi presenti nel vapore a depositarsi in posizione corretta? E il drogaggio (ammesso che per questi materiali serva)? Non credo usino delle "piste" disegnate (fotoincise) sul silicio perché andrebbero bene solo per il primo strato e non per i successivi, IMHO
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Ci sono 10 tipi di persone: quelli che capiscono il codice binario e quelli che non lo capiscono (cit.) Il mio brano preferito di sempre |
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