La litografia High-NA ha visto 'la prima luce': ASML e Intel gongolano

[Redazione di Hardware Upg]

Link alla notizia: https://www.hwupgrade.it/news/cpu/la...no_124806.html

La messa a punto della litografia High-NA da parte di ASML e Intel procede bene: è stato superato un passaggio fondamentale in vista di un'applicazione nella produzione in volumi di semiconduttori tra il 2025 e il 2030.

Click sul link per visualizzare la notizia.

[supertigrotto]

Sarei curioso di sapere il consumo energetico di questo macchinario,i cinesi sostengono che con un mini acceleratore di particelle riescono a fare a meno dei macchinari Asml nel breve futuro,sarei curioso di vedere cosa succederà,chi dei vari competitori avrà ragione

[mail9000it]

Originariamente inviato da supertigrotto

Sarei curioso di sapere il consumo energetico di questo macchinario,i cinesi sostengono che con un mini acceleratore di particelle riescono a fare a meno dei macchinari Asml nel breve futuro,sarei curioso di vedere cosa succederà,chi dei vari competitori avrà ragione

I cinesi sono costretti a percorrere altre strade perché il ban degli USA non gli permette l'accesso ai macchinari ASML. Quindi non é una scelta volontaria o scelta migliore.
I consumi energetici non sono importanti. Sia perché il costo viene spalmato sul numero di wafer che produci al giorno, sia perché spendere 10000 euro in piú di corrente per un macchinario che costa 300 milioni di euro... sono briciole.

[ZeroSievert]

Originariamente inviato da supertigrotto

Sarei curioso di sapere il consumo energetico di questo macchinario,i cinesi sostengono che con un mini acceleratore di particelle riescono a fare a meno dei macchinari Asml nel breve futuro,sarei curioso di vedere cosa succederà,chi dei vari competitori avrà ragione

Non conosco i piani cinesi (ma ci sta, intanto stanno sviluppando la tecnologia) ma so che almeno un gruppo giapponese stava guardando in questa direzione nel passato.



https://iopscience.iop.org/article/1...065/acc18c/pdf

Quello descritto sopra non e' tanto 'mini'. Si parla comunque di 200m di macchina. E questo senza contare tutta l'ottica di trasporto e distribuzione della radiazione. Rispetto a una macchina convenzionale per la litografia rimane un bestione.
Il vantaggio e' che con gli acceleratori di particelle puoi gia' andare a lunghezze d'onda inferiori all'Angstrom. Quindi gia' meglio di qualsiasi litografia EUV.
Il problema grosso e' che per questa tipologia di acceleratori si parla di componentistica in gran parte sperimentale e non industriale. E anche l'affidabilita' e l'efficienza devono probabilmente migliorare parecchio. E questo si ripercuote fortemente sui costi.

IMHO prima di vedere litografia basata su acceleratori/free-electron-laser ne passera' di acqua sotto i ponti. C'e' di mezzo una bella quantita' di ricerca e sviluppo. Per dire, al momento un Energy Recovery Linac (ERL) come quello descritto non e' mai stato realizzato.

EDIT:

Sempre nell'articolo sopra:

- ∼4.4 MW / 1 kW EUV (laser-produced plasma source)
- ~0.7 MW / 1 kW EUV (acceleratore/FEL)

Pero' bisogna vedere quanto sono ottimisti questi numeri e quanto costa realizzare l'impianto, visto che probabilmente per un tale acceleratore si parla comunque di svariati centinaia di milioni d'euro.

EDIT2:

Anche ASML ha fatto studi in merito all'utilizzo di FEL per la litografia. Pero' si sa pochissimo a riguardo e il loro spinoff Lighthouse per la produzione del Tecnezio-99 non e' andato in porto.
Ho il sospetto che a Eindhoven abbiano visto che industrializzare questo tipo di acceleratori non valga, per ora, lo sforzo.