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Old 08-02-2006, 15:14   #1
Redazione di Hardware Upg
www.hwupgrade.it
 
Iscritto dal: Jul 2001
Messaggi: 75166
Link alla notizia: http://www.hwupgrade.it/news/server/16327.html

Al debutto nella seconda metà dell'anno le nuove architetture Xeon MP, dotate di una cache di terzo livello condivisa da ben 16 Mbytes

Click sul link per visualizzare la notizia.
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Old 08-02-2006, 15:50   #2
[JaMM]
Senior Member
 
L'Avatar di [JaMM]
 
Iscritto dal: May 2002
Città: Londra
Messaggi: 680
domanda da ignorante: ma xkè i wafer non sono quadrati? fossero quadrati si sfrutterebbe tutto lo spazio disponibile ottenendo die da tutto il silicio, mentre vedo che invece in quei wafer tondi alcuni die sono "tagliati" e immagino inutilizzabili. qualcuno può chiarire?
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Old 08-02-2006, 15:51   #3
Xenogears
Senior Member
 
L'Avatar di Xenogears
 
Iscritto dal: Feb 2006
Messaggi: 340
Un bel passo avanti riguardo ai consumi e alla cache di terzo livello da ben 16 MB!!!
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Old 08-02-2006, 15:51   #4
lowenz
Bannato
 
L'Avatar di lowenz
 
Iscritto dal: Aug 2001
Città: Berghem Haven
Messaggi: 13528
lol, superato il miliardo di transistor
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Old 08-02-2006, 15:52   #5
axse
Member
 
Iscritto dal: Nov 2005
Messaggi: 102
150W

wow! una bella lampadina alogena.....
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Old 08-02-2006, 16:03   #6
MisterG
Senior Member
 
Iscritto dal: Aug 1999
Città: Monza
Messaggi: 4178
I wafer sono rotondi per motivi di processo tecnologico.
1) vengono realizzati affettando letteralmente dei cilindri di silicio. La lavorazione di uncilindro permette di controllare in maniera migliore l'UNIFORMITA' della massa di silicio rispetto a un parallelepipedo
2) il processo di mascheratura nella lavarozazione dei semiconduttori prevede la stesura di una pellicola che allo stato originale è liquida. Ne viene quindi depositata qualche ml sul wafer e stesa mediante rotazione ad alta velocità dello stesso (come fosse un disco su un lettore per intenderci). La forma discoidale permette anche qui di controllare le forze centrifughe e quindi l'uniformità della pellicola che si ottiene dall'essicazione della soluzione deposta
3) l'incisione degli strati di ossido nella lavorazione dei semiconduttori prevede l'utilizzo di acidi corrosivi e lavaggio degli stessi alla fine del trattamento. Per rimuovere i residui di acidi nella prima fase e di soluzione neutra nella seconda fase viene sempre impiegata la rotazione ad alta velocità del wafer, anche in questa fase la forma discoidale permette un miglior controllo delle forze centrifughe e quindi il raggiungimento di più alte velocità e quindi una più efficiente pulizia della superficie del wafer.

Salut
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Old 08-02-2006, 16:19   #7
vincino
Senior Member
 
Iscritto dal: Dec 2002
Città: Matera
Messaggi: 853
Mi sembra di ricordare che i wafer sono rotondi xchè sono legati al sistema di incisione dei transistor che è di tipo ottico. Quindi immagina che i wafer sono + o - come la lente che serve alla lavorazione. Quaesta dovrebbe essere la spiegazione molto grossolana, ma se cerchi sulla rete senz'altro trovi spiegazioni + approfondite
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Old 08-02-2006, 17:02   #8
coschizza
Senior Member
 
Iscritto dal: May 2004
Messaggi: 8465
Quote:
Originariamente inviato da vincino
Mi sembra di ricordare che i wafer sono rotondi xchè sono legati al sistema di incisione dei transistor che è di tipo ottico. Quindi immagina che i wafer sono + o - come la lente che serve alla lavorazione. Quaesta dovrebbe essere la spiegazione molto grossolana, ma se cerchi sulla rete senz'altro trovi spiegazioni + approfondite
diciamno che non ci sei nemmeno andato vicino
ma la spiegazione di MisterG è perfetta
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Old 08-02-2006, 17:24   #9
Bulfio
Senior Member
 
Iscritto dal: Jan 2002
Messaggi: 847
Si parte da una punta di silicio cristallino, senza imperfezioni. Questa punta viene inserita in una vasca di silicio che si trova a temperatura di fusione (quindi è "molliccio"); nella vasca, intorno alla punta, che è chiamata seme, si attacca un po' di silicio; il seme viene poi tirato fuori, ma mentre il seme scende e poi sale, lo stesso seme ha un movimento rotatorio intorno al suo asse, per dare uniformità al wafer che verrà fuori. Si usa un seme senza imperfezioni che entra in una vasca di silicio fuso perchè il silicio fuso che si attacca al seme e poi, fuori dalla vasca, si raffredda, assumerà la struttura del seme stesso, e dato che il seme ha struttura cristallina, anche il resto del silicio avrà la stessa struttura uniforme, cosa che non accadrebbe se la vasca fosse lasciata raffreddata in maniera "autonoma"; ci sarebbero quindi un casino di imperfezioni. A furia di scendi/sali, si genera il cilindro di silicio, che poi viene tagliato con una sega a filo di diamante.
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Old 08-02-2006, 17:29   #10
fabioleroy
Member
 
L'Avatar di fabioleroy
 
Iscritto dal: Jun 2001
Messaggi: 287
http://it.wikipedia.org/wiki/Processo_Czochralski
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Old 08-02-2006, 17:55   #11
MisterG
Senior Member
 
Iscritto dal: Aug 1999
Città: Monza
Messaggi: 4178
Quote:
Originariamente inviato da vincino
Mi sembra di ricordare che i wafer sono rotondi xchè sono legati al sistema di incisione dei transistor che è di tipo ottico. Quindi immagina che i wafer sono + o - come la lente che serve alla lavorazione. Quaesta dovrebbe essere la spiegazione molto grossolana, ma se cerchi sulla rete senz'altro trovi spiegazioni + approfondite
Hai confuso alcune idee e ottenuto una deduzione sbagliata.
Le incisioni (per usare le tue parole) non vengono eseguite per via ottica ma per corrosione. L'ottica centra solo nella fase appena precedente alla fase di corrosione ovvero nella mascheratura. In pratica la pellicola che viene applicata come al punto due di quando ho detto sopra è fotosensibile, quindi è possibile mediante esposizione a fonte luminosa disegnarsci sopra il negativo delle geometrie che si vogliono ottenere sugli strati di ossido di accrescimento del silicio e che successivamente verrano preservate dall'attacco degli acidi.

Salut
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Old 08-02-2006, 19:36   #12
MaxArt
Senior Member
 
L'Avatar di MaxArt
 
Iscritto dal: Apr 2004
Città: Livorno
Messaggi: 6659
435 mm quadrati, praticamente una pietra ollare...
Quello che mi lascia perplesso è la quantità di die sprecati dal processo di mascheratura. So che viene effettuato sempre nello stesso modo perché i dischi non sono sempre di uguale diametro, ma non si potrebbe ottimizzare il design volta per volta? Mah...
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Old 08-02-2006, 20:01   #13
YaYappyDoa
Registered User
 
Iscritto dal: Feb 2002
Messaggi: 338
Intel dovrebbe a mio parere cessare di produrre Xeon, l'architettura è ormai superata e non risponde ai requisiti odierni che vogliono potenza e bassi consumi, basso costo di esercizio. E' finita l'era in cui sventolare un certo marchio o un nome bastava a far vendere il prodotto. La concorrenza è agguerrita e tecnicamente superiore, ad esempio Opteron nel general purpose/scientifico low cost e UltraSparc nel server votato al multithreading.
Non vedo un futuro felice per i nuovi Xeon, sopratutto in vista degli imminenti prodotti della concorrenza da 65nm.
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Old 08-02-2006, 21:13   #14
Marcox86
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L'Avatar di Marcox86
 
Iscritto dal: Nov 2003
Città: Bazzano
Messaggi: 30
Intel sta prendendo decisioni troppo da monopolista (come ha sempre fatto)...ma perchè invece di aumentare cache su un'architettura piuttosto inefficiente cercare di riprogettare da 0 questi processori basandosi sull'efficienza.. in un'azienda il consumo legato a questi processori influisce negativamente sui costi di consumo di energia elettrica...nel 2006 non ci possiamo permettere processori inefficienti e che scaldano più dei vecchi K6... (Almeno AMD è sulla strada giusta)
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Old 08-02-2006, 21:40   #15
Gandalf 82
Senior Member
 
Iscritto dal: Jul 2003
Messaggi: 735
Bulfio è l'unico che ha dato la risposta corretta, le altre sono tutte conseguenze.... ma come si fa a dare una spiegazione con la conseguenza di ciò che dovresti rispondere?????
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Old 08-02-2006, 23:14   #16
bond_san
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L'Avatar di bond_san
 
Iscritto dal: Jul 2004
Messaggi: 171
MMMMMiiiiiiiiiiinnnnnnnn.....

......cxxxxxaaaaaa.....ogni volta ci fanno vedere sti "LP", mi viene un coccolone pensando al case......
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Old 08-02-2006, 23:57   #17
coschizza
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Iscritto dal: May 2004
Messaggi: 8465
Quote:
Originariamente inviato da Marcox86
Intel sta prendendo decisioni troppo da monopolista (come ha sempre fatto)...ma perchè invece di aumentare cache su un'architettura piuttosto inefficiente cercare di riprogettare da 0 questi processori basandosi sull'efficienza.. in un'azienda il consumo legato a questi processori influisce negativamente sui costi di consumo di energia elettrica...nel 2006 non ci possiamo permettere processori inefficienti e che scaldano più dei vecchi K6... (Almeno AMD è sulla strada giusta)

quello che chiedi tu l'lntel lo ha gia fatto negli ultimi anni e le cpu che stai cercando usciranno entro l'anno, queste sono le ultime con tecnologia di derivazione P4

la prossime generazione a leggere le specifiche rese note dovrebbero essere sensibilmente piu performanti ma non rispetto ai p4 attuali ma rispetto alla consorrenza amd (che ovviamente sta già preparando la risposta)

Ultima modifica di coschizza : 09-02-2006 alle 00:00.
coschizza è offline   Rispondi citando il messaggio o parte di esso
Old 09-02-2006, 05:45   #18
mjordan
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Originariamente inviato da Xenogears
Un bel passo avanti riguardo ai consumi e alla cache di terzo livello da ben 16 MB!!!
CHissà se questa cache di terzo livello sia effettivamente efficiente...
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Old 09-02-2006, 05:46   #19
mjordan
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L'Avatar di mjordan
 
Iscritto dal: Mar 2002
Città: Pescara - 未婚・恋人なし Moto: Honda CBR 1000 RR ‫Casco: XR1000 Diabolic 3
Messaggi: 27578
Quanti processori conterrà secondo voi quel wafer?
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Old 09-02-2006, 14:44   #20
Compass
Senior Member
 
Iscritto dal: Feb 2003
Città: Roma
Messaggi: 340
Il wafer è da 12 pollici = 304,8 mm -> area = 72966 mm2;
se non si sprecasse area nel processo di realizzazione e nel taglio dei "die", avresti 72966/435 = circa 167 processori.
Contando quelli sul bordo e quelli che comunque non vengono bene, forse un centinaio o poco più.
Quelli che non vengono bene non si buttano, ma ritornano nel ciclo: il silicio viene depurato e riutilizzato per fare altri wafer. Con quello che costano... non si butta niente!!

per MaxArt:
il processo VIENE ottimizzato ogni volta! Il problema è che il disegno del processore è ogni volta diverso, con diversa area da occupare sul wafer. Stai tranquillo, che l'area sprecata è ridotta quasi a zero (sono soldi che si perderebbero!).
Compass è offline   Rispondi citando il messaggio o parte di esso
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