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www.hwupgrade.it
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Link alla notizia: https://www.hwupgrade.it/news/memori...28_158855.html
Samsung e ASML hanno annunciato un ampliamento nella collaborazione sulla litografia High-NA EUV. Samsung prevede di introdurre questa tecnologia nella produzione di massa delle DRAM entro il 2028 e ha aderito all'iniziativa per lo sviluppo di fotomaschere da 12 pollici. Click sul link per visualizzare la notizia. |
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