Opteron Upgrade Program: processori scontati da AMD

[Redazione di Hardware Upg]

Link alla notizia: http://www.hwupgrade.it/news/busines...amd_28619.html

Con l'Opteron Upgrade Program AMD intende proporre in modo più competitivo le proprie cpu per sistemi server e workstation: da 50 a 100 dollari di ribasso

Click sul link per visualizzare la notizia.

[ilratman]

Ottima cosa ma soprattutto dovuta al fatto che amd ha un margine notevole sui processori visto che da un wafer ne produce più del doppio, quasi triplo, rispetto ad intel!

Uno shangai ha circa 250mm2 mentre un nehalem ne ha oltre 700mm2.

[calabar]

Sei sicuro? Io ricordo aree molto simili in dimensione, ma potrei sbagliarmi o confondermi coni Barcelona.
Anche perchè in fin dei conti la metà del die size è dovuta alla presenza della L3, quindi è difficile pensare ad una differenza tanto elevata.

[bjt2]

Più che altro lo yield dei 45nm AMD potrebbe essere più elevato perchè con la litografia a immersione è più lontano dal limite fisico della radiazione incidente di INTEL che con la litografia "secca" è ai limiti fisici e deve fare più passaggi per incidere a 45nm con una tecnologia buona fino ai 65nm... Quindi oltre ad avere uno yield inferiore, INTEL dovrebbe avere anche dei costi operativi superiori, visto che per gli strati critici deve fare almeno due passaggi di incisione...
Fermo restando che l'area del Nehalem dovrebbe essere simile a quella del Barcelona.

[ilratman]

Originariamente inviato da calabar

Sei sicuro? Io ricordo aree molto simili in dimensione, ma potrei sbagliarmi o confondermi coni Barcelona.
Anche perchè in fin dei conti la metà del die size è dovuta alla presenza della L3, quindi è difficile pensare ad una differenza tanto elevata.

mi sembra di si, la l3 è vero che è simile ma amd usa transisto più piccoli nel senso che la cella di memoria è più piccola.

mi sembra che un ph2=opteron abbia 258mm2 e un i7 920 ossia uno xeon x5550 abbia 761mm2.

[ilratman]

Originariamente inviato da bjt2

Più che altro lo yield dei 45nm AMD potrebbe essere più elevato perchè con la litografia a immersione è più lontano dal limite fisico della radiazione incidente di INTEL che con la litografia "secca" è ai limiti fisici e deve fare più passaggi per incidere a 45nm con una tecnologia buona fino ai 65nm... Quindi oltre ad avere uno yield inferiore, INTEL dovrebbe avere anche dei costi operativi superiori, visto che per gli strati critici deve fare almeno due passaggi di incisione...
Fermo restando che l'area del Nehalem dovrebbe essere simile a quella del Barcelona.

si hai ragione ho visto che sono simili!

258 contro 261 mm2

[amagriva]

Ciao Redazione,
che ne dite di un bell'articolone che spieghi ai profani i processi di produzione dei proci?
Magari l'avete già fatto (se sì qualche anima pia mi può mandare il link?).
Se lo fate abbondate con i disegni (Non capisci? Ti faccio un disegno...)
Litografia ad immersione...Radiazione incidente....Litografia "secca"...Peggio che andare di notte...
Grazie e ciao

[ld50]

ahahahah litografia a immersione, radiazione incidente, ma che è oooooooooooooooh?

[Eraser|85]

Originariamente inviato da ld50

ahahahah litografia a immersione, radiazione incidente, ma che è oooooooooooooooh?

[amagriva]

http://it.wikibooks.org/wiki/Micro_e_nanotecnologia/Microtecnologia/Tecniche_litografiche/Litografia_ottica