Samsung, una nuova linea per produrre chip a 5 nanometri EUV

Samsung Electronics ha annunciato l'intenzione di ampliare la propria capacità produttiva aggiungendo una nuova linea per la realizzazione di chip a Pyeongtaek, in Corea del Sud. L'impianto inizialmente produrrà chip (5G, HPC, IA) con processo produttivo a 5 nanometri EUV, ma in futuro sarà ammodernato per rispondere alle necessità del mercato. La costruzione della linea partirà questo mese e la piena operatività è prevista per la seconda metà del 2021.

"Questo nuovo impianto di produzione amplierà le capacità produttive di Samsung per i processi sotto i 5 nanometri e ci consentirà di rispondere rapidamente alla crescente domanda di soluzioni EUV", ha affermato il dott. ES Jung, presidente e capo del business produttivo di Samsung Electronics. "Rimaniamo impegnati a soddisfare le esigenze dei nostri clienti tramite investimenti attivi e il reclutamento di talenti. Ciò ci permetterà di continuare a battere nuove strade e promuovere allo stesso tempo una crescita robusta per l'attività di produttiva di Samsung".

Il nuovo investimento nel campo della produzione litografica all'ultravioletto estremo segue quello annunciato di recente per la creazione della linea V1, ospitata nell'impianto di Hwaseong, sempre in Corea del Sud, e dedicata ai chip mobile a 7 e 6 nanometri EUV.