ISSCC 2015: il futuro dei chip Intel è a 10 e 7 nanometri

L'International Solid-State Circuits Conference (ISSCC), evento che si sta svolgendo in questi giorni a San Francisco, è occasione per Intel di fare il punto di quella che sarà l'evoluzione delle tecnologie di produzione di processori, e di semiconduttori più in generale, che verranno adottate nel corso dei prossimi anni.

Partiamo dal processo produttivo attualmente in uso, quello a 14 nanometri che Intel ha ufficialmente reso disponibile nel corso dell'estate 2014 con i primi processori Core M per sistemi ultraportatili e che è stato in seguito utilizzato per i processori Core di quinta generazione annunciati al CES 2015 di Las Vegas nel mese di Gennaio. La roadmap Intel prevede storicamente l'utilizzo di una tecnologia produttiva più sofisticata a circa 2 anni di distanza dall'introduzione di quella in uso; tale tempistica dovrebbe venir rispettata, stando a quanto indicato dall'azienda, anche nei prossimi anni.

Vedremo quindi al debutto processo produttivo a 10 nanometri nel corso del 2016, seguito nel 2018 da quello a 7 nanometri. Arrivati a questo punto si renderà indispensabile adottare un approccio alla produzione differente da quello attuale, che ben ci servirà sino ai 7 nanometri: secondo Intel bisognerà passare a nuove tecniche di produzione molto più sofisticate come ad esempio quelle basate su laser ultravioletti, con evidenti impatti in termini di costi di produzione, di sviluppo e di implementazione che saranno da valutare.

Nella storia recente di Intel il passaggio alla tecnologia produttiva a 14 nanometri è andato incontro ad alcuni ritardi rispetto a quanto inizialmente previsto. Oltre ad alcune difficoltà inaspettate legate alle procedure da completare per poter avere la tecnologia produttiva a 14 nanometri pronta per la produzione, Intel è dovuta intervenire anche per far fronte alle iniziali rese produttive del processo che sono state inferiori alle aspettative. Al momento attuale i problemi di rese sono stati completamente risolti e in prospettiva il passaggio al processo a 10 nanometri è allineato alle tempistiche di sviluppo predefinite dall'azienda, con una stima di tempi di sviluppo più rapidi del 50% rispetto a quanto registrato con la tecnologia a 14 nanometri.

Tutto questo permetterà di rispettare ancora, ormai a 50 anni dalla sua iniziale formulazione, la cosiddetta "legge di Moore", formulata per la prima volta da Gordon Moore uno dei fondatori di Intel. Questa prevede che il numero di transistor integrati in un circuito vada incontro indicativamente ad un raddoppio della densità circa ogni due anni, regola che è stata sino ad ora rispettata in tutti questi anni e che richiede, per venir portata avanti, quella cadenza di aggiornamento delle tecnologie produttive alla quale Intel ci ha abituato e che prevede di portare avanti anche per l'evoluzione del prossimo futuro.