Il Giappone guarda agli 1,4 nanometri? Rapidus frena: pura speculazione

Rapidus ha diffuso una breve ma netta dichiarazione per smentire una serie di articoli apparsi sulla stampa giapponese, tra cui un approfondimento di Nikkei Asia, riguardanti presunti piani già definiti per la costruzione e l'avvio operativo di una fabbrica dedicata alla produzione di chip a 1,4 nanometri.

L'azienda ha chiarito che tali informazioni "non provengono dalla società" e che qualsiasi aggiornamento relativo alla roadmap tecnologica sarà comunicato solo tramite canali ufficiali. Una posizione che mira a frenare l'ondata di entusiasmo generata dalle indiscrezioni, in un momento in cui il progetto di rilancio dell'industria dei semiconduttori giapponese è osservato con grande attenzione a livello internazionale.

Secondo quanto riportato da Nikkei Asia, Rapidus sarebbe pronta ad avviare nel 2027 la costruzione di un secondo impianto in Hokkaido, con l'obiettivo di iniziare la produzione di chip a 1,4 nm già nel 2029. Il processo, tra i più avanzati al mondo, rappresenterebbero un passo cruciale per ridurre il distacco da TSMC e Samsung, che puntano rispettivamente al 2028 e al 2027 per la produzione di massa su tecnologia equivalente.

Le indiscrezioni includono anche stime sugli investimenti, che supererebbero i 2.000 miliardi di yen, con forti contributi governativi e l'appoggio dei principali istituti di credito giapponesi. La seconda fabbrica, secondo le ricostruzioni, potrebbe arrivare a produrre persino chip da 1 nm, mentre in parallelo proseguirebbe la collaborazione con IBM, già partner per lo sviluppo del processo a 2 nm.

Rapidus, però, frena: nessuna conferma su timeline, investimenti o specifiche tecniche. L'unico punto certo resta l'impegno attuale sul primo impianto di Chitose, dove l'azienda punta alla produzione di massa di chip a 2 nm nella seconda metà del 2027. Sulla scalabilità verso processi più avanzati, la società ribadisce che eventuali decisioni saranno comunicate solo quando maturate e approvate internamente.