|
Inizialmente i processi fotolitografici avevano solo nomi commerciali, poi si è usata la feature size (lo spessore della linea più sottile che fosse possibile fotolitografare sul chip) ma DAL 1994 questa non corrisponde più al nome del processo, poi si è passati ad usare la dimensione del dettaglio più piccolo dei gate di un certo processo, ma passando dai gate mosfet "planari" a strutture più complesse tipo i finfet, il dettaglio più piccolo non è lo stesso (ed influisce in modo diverso sulle prestazioni e sull'area occupata sul chip).
Nel caso di Intel 7 (prima chiamato Intel 10nm) la cosa è stata razionalizzata facendo riferimento alla "pinna" dei finfet più piccoli prodotti con quel processo è ampia 7nm, mentre prima giustificavano il "10nm" come dimensione di gate planari aventi la stessa densità sul chip (se ricordo bene).
|