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Originariamente inviato da LMCH
Se non sbaglio, per chip "grossi" tipo le GPU con le tecnologie EUV attuali bisogna "fotolitografarli a quadratini" perchè l' area utile di fotoincisione di una maschera messa a fuoco è più piccola del chip, con ovvie conseguenze sulle rese (probabilmente in certi casi bisognerà progettare il layout del chip tenendo conto di questo). 
Non parliamo poi dei problemi tutti nuovi che si hanno con tutti i materiali utilizzati.
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Credo di aver letto di una riduzione dello scanner con l'introduzione del High-NA (5nm ed oltre).