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Intel ha dato il via ai lavori per un nuovo Central Utility Building nei pressi del quartier generale di Santa Clara, destinato a supportare la produzione di fotomaschere per i processi litografici DUV ed EUV. Il progetto, ideato nel 2023 sotto la gestione di Pat Gelsinger, punta ad ampliare la capacità di Intel Mask Operation in vista di una maggiore varietà produttiva e di potenziali clienti esterni della foundry.

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Con i soldi dello stato, per una volta, non il nostro. :asd:

Con i soldi dello stato, per una volta, non il nostro. :asd:
Come fanno un po' tutti, giappone incluso.

Con i soldi dello stato, per una volta, non il nostro. :asd:

Mi ricordo che ci avevano provato a farlo con i soldi nostri e che qualcuno si era pure rammaricato per la mancata spennata.

Gelsinger aveva anche le idee giuste,solo che dava fastidio al CDA