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La Cina ha annunciato che un'azienda non meglio precisata ha messo a punto nuove macchine litografiche che ne ridurranno la dipendenza dall'Occidente. Nonostante i notevoli miglioramenti tecnologici, i nuovi sistemi sono ancora molto indietro rispetto a quelli di ASML e Nikon.

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A furia di dai,mi sa che ci riusciranno

Quindi riassumendo:

China:
macchinario DUV opera a una lunghezza d'onda di 193 nanometri (nm), con una
* risoluzione inferiore a 65 nm e una
* precisione di sovrapposizione inferiore a 8 nm.

Paesi Bassi:
ASML ha una
* risoluzione inferiore a 38 nm con una
* precisione di sovrapposizione di 1,3 nm

a parte che recuperare nanometri implica risorse e conoscenze che sono non linearmente collegate alla diminuzione dei nm, si tratta di passare da:

65 nm => 38 nm (risoluzione)
8 nm => 1.3 nm (precisione di sovrapposizione)

tenero pooh

ergo da qui a 15/20 anni saranno competitivi quanto l'occidente, stiamo solo prendendo tempo e anzi li stiamo aiutando a spremere le meningi e accelerare...
I cinesi hanno il pregio di non andare di fretta ma di puntare con calma all'obiettivo.

e le macchine litogtafiche prodotte negli stati uniti che precisione hanno?