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Gli ingegneri del MIT hanno fatto crescere transistor 2D in scala atomica sopra un wafer in silicio da 8 pollici. La nuova tecnica potrebbe portare a ottenere chip più densi e potenti impilando i transistor in un'area simile a quella dei chip attuali.

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wow geniale

Direi che è una grande news! Speriamo non passino decenni prima di una applicazione pratica e commercialmente sostenibile !!

Spero che Zhu sia più bravo nell'ingegneria dei materiali che a fare metafore: «è come costruire un edificio a più piani», «hai un granello di pepe intero e lo macini in polvere».
Insomma…

Visto che la difficoltà che c'è di fare scendere i nanometri,quella del 3d è l'unica strada per scalare le prestazioni

Tanta roba sta nuova tecnologia..

La tecnologia presentata sembra promettente, oltre che quasi fantascientifica :eek:
Però da ignorante mi piacerebbe sapere come fanno a creare i transistor e i relativi collegamenti. Cioè, cosa usano per "obbligare" gli atomi presenti nel vapore a depositarsi in posizione corretta? E il drogaggio (ammesso che per questi materiali serva)? Non credo usino delle "piste" disegnate (fotoincise) sul silicio perché andrebbero bene solo per il primo strato e non per i successivi, IMHO