Link alla notizia: http://www.businessmagazine.it/news/da-intel-e-berkeley-lab-nuovo-photoresist-per-la-litografia-euv_53320.html

Un resist che unisca alta sensibilità ed elevata risoluzione ed accuratezza è allo studio per applicazioni con la litografia Extreme Ultraviolet

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Ormai ho perso il conto da quanti anni ci si aspettava un passaggio agli EUV ed ogni volta spuntava fuori qualche ostacolo che faceva rimandare il tutto di anni.

Se non fosse stato per tutti gli accrocchi che si sono inventati per spingere ulteriormente i processi produttivi gia in uso, mi sa che ci saremmo già fermati con la riduzione della feature size già nel 2005 ... 2008.

Mi viene solo da dire una cosa: questi spendono in ricerca e fanno lavorare in sinergia industrie ed università. Qualche anno fa (molti) negli atenei italiani ci fu una mezza sommossa alla proposta di far entrare le industrie in facoltà come ingegneria.