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L'istituto di ricerca belga ha esposto il primo wafer impiegando tecniche di produzione EUV. Entro il 2013 produzione in volumi a 16nm

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Noi siamo convinti che i nostri programmi contribuiranno in maniera significativa a portare l'EUV verso la produzione in volumi per i nodi a 16 nanometri entro il 2013".

Non siamo ormai vicini al limite fisico del silicio?

Mi sembra che si diceva che era quasi impossibile scendere sotto i 10 nanometri senza creare problemi di ogni tipo..

ma la fotografia centra qualcosa con il testo? quello mi sembra un normalissimo nodo a 45-65nm. da quel che so l'EUV necessita di alto vuoto non di una semplice clean room.