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Le tecniche di EUVL sembrano essere in ritardo: Intel utilizzerà la normale litografia ad immersione per i processi a 14nm, sperando di poter utilizzare EUVL per i 10nm

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Il colosso di Santa Clara ha già stabilito i piani per estendere la tradizionale litografia ad immersione a 193nm alla produzione di chip a 14 nanometri

193 nm? Non l'ho capita.

EDIT: ok, mi sono informato, 193 nm è la lunghezza d'onda della luce usata per la fotolitografia