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Un gruppo di ricerca mette a punto una tecnica che permette di ottenere pattern ad elevata risoluzione impiegando la luce visibile al posto della radiazione ultravioletta

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bhe', bella idea. alla fine il costo e' dovuto solo nell'accuratezza del posizionamento delle maschere e di un'ottica piu' rifinita, ma si riuscirebero ad ottenere dimensioni quanto grandi si voglioni.

Mi sa che con i laser le maschere non esisterebbero più. E' appunto questo il passaggio fondamentale. Il limite non è la litografia in se stessa ma la diffrazione.

Siccome è inversamente proporzionale alla lunghezza d'onda ecco il perchè dell'UV.

Mi son perso io qualche pezzo o non hanno mai provato a farla ad immersione in liquidi ad alto n (nei microscopi si usa l'olio).

Non ho ben capito a cosa ti riferissi con l'olio, ma a quanto ne so la diffrazione è indipendente dall'indice di rifrazione, poi se il problema degli ultravioletti estremi è che vengono assorbiti in maniera non trascurabile dall'aria stessa (è ciò a cui accenna l'articolo) figuriamoci a lavorare in un mezzo più denso. :sofico:

Per quanto riguarda eliminare la maschera, di fatto lo si fa già se si usano tecniche col fascio elettronico. il punto è che però che qualsiasi scansione costa molto più tempo che impressionare tenendo la maschera, quindi è vero che hai un risparmio di costo e semplifichi un po' il sistema, ma non so se poi non rischi ripercussioni dal punto di vista dei "tempi industriali". :boh:

Per quanto si può intendere dalla spiegazione questa sembrerebbe spostare in parte il problema dal limite diffrattivo alla possibilità di spostare finemente il bordo del fascio laser...

La diffrazione dipende dalla lunghezza d'onda: se fai passare la radiazione in un mezzo con n piu' alto (come l'olio, o l'acqua) la frequenza si conserva, quindi la lunghezza d'onda si riduce, quindi la diffrazione si riduce.