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Toshiba annuncia lo sviluppo di un nuovo materiale fotosensibile indispensabile per il progresso dei processi produttivi

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Il problema ancora irrisolto e' che stiamo usando al stessa lunghezza d'onda UV da millemila anni... ormai siamo 5 volte sotto il limite di diffrazione, hai voglia a fare disegnini precisi :))

BTW: il photoresist puo' essere negativo o positivo, non tutti e due.

Il problema ancora irrisolto e' che stiamo usando al stessa lunghezza d'onda UV da millemila anni... ormai siamo 5 volte sotto il limite di diffrazione, hai voglia a fare disegnini precisi :))

BTW: il photoresist puo' essere negativo o positivo, non tutti e due.

è vero ma devi considerare che l'intel ha gia finito lo sviluppo della tecnologia EUV a circa 13nm che doveva esser utilizzata gia ora con i 32nm ma è stato posticipato ai 22nm

io so che sotto 11nm non si può scendere per questioni atomiche mi pare...
quindi tra un po' che faremo? passiamo al grafene? :)

io sapevo che i 45nm si facevano già con i raggi X....

io so che sotto 11nm non si può scendere per questioni atomiche mi pare...
quindi tra un po' che faremo? passiamo al grafene? :)

oltre ai materiali nuovi la ricerca va anche in direzione opposta cioè mantenere la dimesnioen attuale e creare le cpu in piu strati e con transistor in 3 dimensioni dove lo sviluppo del die avviene appunto su tutti e 3 gli assi

io sapevo che i 45nm si facevano già con i raggi X....

i processi di oggi usano litografie a 193nm

è vero ma devi considerare che l'intel ha gia finito lo sviluppo della tecnologia EUV a circa 13nm che doveva esser utilizzata gia ora con i 32nm ma è stato posticipato ai 22nm

E' gia' affidabile? Mi sembrava di ricordare che avesse ancora parecchi problemi, e che non fosse sicuro che potesse farcela per il 2015... ma e' roba che ho sentito un po' di tempo fa e non mi ricordo bene.

Il problema ancora irrisolto e' che stiamo usando al stessa lunghezza d'onda UV da millemila anni... ormai siamo 5 volte sotto il limite di diffrazione, hai voglia a fare disegnini precisi :))

BTW: il photoresist puo' essere negativo o positivo, non tutti e due.

gli atomi sono dell'ordine dell'angstrom --> 10^-10 metri
22 nm sono quasi due ordini di grandezza in più 2,2 x 10^-8 metri...c'è una bella differenza...soprattutto per le leggi quantistiche, che regolano i vari comportamenti della materia alla nanoscala e che sono diverse a seconda delle proprietà del materiale che andiamo a considerare...l'articolo parla di truxene e se andate a leggere il link messo da hwu, si vede che hanno utilizzato un processo simile alla realizzazione del grafene(la figura a scansione effetto tunnel), ovvero un materiale polimerico quasi bidimensionale(2dimensioni (in questo caso x e y)molto maggiori della terza z - che quindi si può considerare nulla)che cambia totalmente la densità di stati, la probabilità di trovare gli elettroni in un determinato posto e tantissime altre proprietà rispetto alle altre configurazioni(1d, quasi 1d, 0d, 3d....)...

banaz, puoi spiegare quello che hai detto, però in italiano potabile? ^^

banaz, puoi spiegare quello che hai detto, però in italiano potabile? ^^

quoto :)

in pratica il problema di queste nuove nanotecnologie oltre ad essere le modalità di costruzione e di definizione(quindi litografia, bottom up etc etc)sono anche le leggi costitutive di queste nuove tecnologie...a livello nanoscopico(come siamo adesso) non valgono le normali leggi della fisica quali la legge di gravità, di interazione, le forze newtoniane etc etc, ma valgono le proprietà quantistiche...queste proprietà variano a seconda del contesto in cui siamo anche per piccolissime variazioni: ci sono moltissime analogie con il mondo macroscopico, ma per farti un piccolo esempio se prendi un pezzettino di vetro e ne fai una parte alta 2nm e un'altra 3nm la luce che riflette sarà rossa per il primo e verde per il secondo!!e hai solo modificato di 1 nanometro la sua altezza...
come puoi notare dalla fotografia sul sito della toshiba, che è stata fatta tramite una scansione a effetto tunnel(è una metodologia che ti permette oltre che fotografare il tuo materiale, anche di modificarlo direttamente nelle sue proprietà fisiche),il tuxene è un polimero utilizzato ad una scala quasi bidimensionale, ovvero che la sua larghezza e la sua profondità sono molto più grandi del suo spessore(sempre in nanoscala ovviamente) - esempio 100nm di lunghezza e larghezza e 1 di spessore...se tu con le dovute leggi di de broglie e i vari postulati di fermi e di schroedinger vai a studiarne la particolarità quali densità di stati, densità di elettroni, funzioni d'onda, energia minima, energia di fermi e quant'altro quantistico, scopri che ti vengono fuori dei determinati risultati che valgono solo per determinati stati(quantizzazione)..ma se invece di prendere 1nm di spessore ne prendi un materiale da 50nm, i tuoi risultati cambiano totalmente...quindi oltre alle tecniche di produzione delle nanotecnologie e alla loro alimentazione(hai mai avuto ancora notizia di una pila nanoscopica per alimentare le varie geniali invenzioni dell'ingegneria materialistica??), una delle grandi problematiche è che a quella scala vigono leggi probabilistiche e quantistiche che anche se si sono studiate, in molti casi danno parecchi risultati contrastanti anche fra esperimenti molto simili fra loro...
ogni anno si parla di limiti delle nanotecnologie, quello degli 11nm a causa di problemi atomici mi sembra alquanti improbabile visto che in 1nm ci stanno circa 10/15 atomi :P(le molecole del nostro corpo arrivano ad un massimo di 15nm)per le ragioni che in parte ho esposto sopra..essendo ancora una scienza giovanissima, si ipotizzano solo le potenzialità non i veri limiti: altrimenti nessuno, me compreso, inizierebbe a studiarle ai vari politecnici :P

gli atomi sono dell'ordine dell'angstrom --> 10^-10 metri
22 nm sono quasi due ordini di grandezza in più 2,2 x 10^-8 metri...c'è una bella differenza...

E allora? I pattern che riesci a fare sono limitati dalla lunghezza d'onda della luce che usi per illuminare le maschere.
Oggi si usano 193nm, per feature minime di 45 nm. Siamo 4 e passa volte sotto la lunghezza d'onda, il che ti da' non pochi problemi (infatti, negli ultimi processi si e' pian piano dovuto cambiare le regole di fabbricazione, ad es. le linee di poly devono essere parallele, e cose del genere, per cercare di ottenere risultati decenti).

azz... le nostre molecole sono a 15nm! non lo sapevo... se dovessimo fare una CPU grossa quanto il nostro cervello con una scala produttiva a 15nm rischiamo di ricreare le potenzialità dell'intelligenza umana?

La parola micro-scabrosità non è adatta e meglio dire nano-scabrosità visto che siamo a su dimensioni di nano-metri